說著，山川歸途畫面一轉，直接切換到春晚現場。
“接下來大家睜大眼睛，咱們一幀一幀的去看，看看這個影片裡面到底透露出多少黑科技的突破。
對，我沒有說錯，就是科技突破。
讓政哥敢說 18 名院士這樣的話，必定有一定的理由和底氣所在。”
說著，畫面繼續一轉。
山川歸途直接把整個半導體有哪些裝置、工藝步驟流程全部整理出來。
影片畫面很快切到春晚現場，李剛站在臺上，背景開始播放。
山川歸途的聲音從畫外傳來：“各位，咱們一幀一幀看。先看裡出現的那些裝置，我一個個給你們拆。”
“第一段，矽材料。”
畫面裡出現一座熔爐，爐膛裡是亮橙色的熔液。畫面中的石英砂倒進爐子裡面去。
“這是石英砂熔煉爐。石英砂提純的第一步，冶金級矽。旁邊那個圓柱形的爐子，是單晶爐。
多晶矽在裡面熔化，用一根種子晶體往上拉，拉出單晶矽棒。
右邊那一排線鋸，是切割矽片的。
這一步把矽棒切成薄片，每一片具體多厚我就不知道了，總之很薄就是了，這些資料，我也是在國外瞭解到的，非專業人士，說的不對別噴。”
“大家快看影片第二段，光刻。”
畫面推進到白色車間。
龍騰一號光刻機出現在畫面中央。
工件臺高速滑動，雷射發射，穿過掩膜版，照射矽片。
“這就是光刻機，我找專業人士看過，這不是渲染出來的畫面，這是真機器。
只不過跟我網上看到了不一樣，，工件臺的移動軌跡、雷射發射時的光斑形態，跟國外的光刻機不一樣，我估計應該是大秦集團為了規避專利糾紛而採取的措施，在看這十秒影片的第三段，刻蝕和薄膜。”
畫面轉到一排裝置。
高真空腔體，等離子體發光，矽片在腔體裡被刻蝕。
最後是薄膜沉積裝置，CVD爐管裡，氣體在高溫下分解，在矽片表面沉積出一層薄膜。
“根據我短時間惡補的知識，這應該就是刻蝕機和薄膜沉積裝置。
刻蝕是把不需要的材料腐蝕掉，沉積是把需要的材料鍍上去。
這兩步來回迴圈，每一層電路都要做一遍。
你們看那個CVD爐管，裡面有幾片矽片在同時沉積，一次能處理幾十片，我們繼續接著看這十幾秒第四段，根據我查的資料裡面是最後兩步了，也就是離子注入和退火。”
畫面切到一臺裝置，離子束打在矽片上。
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