“上帝！我發誓，校準了三遍！保證精度到零點一奈米！”
凌晨三點，麻省理工學院的半導體實驗室裡，十幾個研究員圍在一臺透射電鏡前，臉上帶著一種混合了好奇、懷疑和居高臨下的表情。
“真實10奈米？我看是營銷話術又換了個花樣。”
“華國人就喜歡搞這種噱頭，指不定是用了什麼新型堆疊架構，把等效製程吹成10奈米。”
“等測完就知道了，估計實際尺寸還在20奈米以上。”
帶著固有偏見，檢測員漫不經心地調著電鏡引數。
電子束對準了晶片截面的柵極區域，螢幕上的影像逐漸清晰。
檢測員的手猛地頓住。
螢幕上，電晶體柵極的邊界清晰得不像話。
那線條，那結構，那精度……
他做了二十年電鏡分析，從來沒見過這麼幹淨的截面。
沒有拖影，沒有模糊，每一層材料的介面都銳利得像刀切出來的。
他以為自己看錯了，重新調了一遍引數，又掃了一遍。
還是一樣。
測量標尺跳出來的那一刻，整個實驗室瞬間死寂。
10.2奈米！
誤差正負0.3奈米！
真真正正的10奈米級真實製程。
“上帝……”
有人低聲呢喃。
“是真的…… 竟然是真的……”
“不可能……”
“以華國的產業鏈水平，14奈米都費勁，怎麼可能做到真正的10奈米？”
可螢幕上那個數字，就在那裡。
就像一個冰冷的巴掌，拍在所有人臉上。
震驚不過三秒，更瘋狂的逆向分析立刻展開。
“快！做架構分析！電路拆解！版圖逆向還原！”
“我要知道這顆晶片的每一個細節！”
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