從這個角度來說，研究隱身衣本身就是在研究光刻技術的應用延伸。
高長安得到這個肯定的答覆之後，沒再多說什麼，而是又從隨身的公文包裡抽出一個深藍色的資料夾，遞到了肖宿面前。
肖宿翻開一看，是一份關於國產深紫外光刻系統關鍵子系統研製進展的報告。
他往下翻了幾頁，發現內容很簡略，就是從整體上勾勒出了目前國產光刻系統研發的大致格局，然後提到了國產深紫外光刻系統關鍵子系統研製專案組。
簡單來說，這是一個專項由科技部牽頭，聯合了國內幾家最具實力的微電子研究所和精密光學研究單位共同攻關的實驗課題。
其中，滬城微電子研究所承擔了核心光學系統的設計任務，長光精密光學研究所負責物鏡系統的加工與裝調，另外還有幾家單位分別負責光源、工件臺和浸沒系統的研發。
這套被寄予厚望的國產光刻系統，對標的是國際上已經成熟應用多年的193奈米浸沒式光刻平臺，目標是實現從光源到物鏡到工件臺的全系統自主可控……
前面那些光刻系統的技術架構肖宿並不陌生，193奈米浸沒式光刻在國際上已經成熟應用很多年了，那些光學系統的底層理論框架沒什麼特別的，肖宿掃了幾眼就大致瞭解他們的設計思路了。
這些沒什麼可看的，他很快就翻完了，視線停在了報告最後一頁上。
這裡他們重點寫了幾個這個實驗目前遇到的瓶頸。
光學系統的波像差一直壓不到目標值以下，導致解析度無法穩定滿足工藝節點的要求……
工件臺的定位精度雖然在靜態測試中達標，但在高速掃描狀態下的動態跟蹤誤差始終偏大，影響曝光效率……
照明系統的空間相干性均勻度差，多次調整光學設計都沒能徹底改善，直接限制了成像對比度……
這上面的幾個問題還只是子系統層面的。
當所有子系統聯調聯試的時候，各單元之間的耦合誤差還會進一步疊加放大。
也就是說，整個系統的綜合性能距離實用化還是有相當一段距離的。
肖宿把彙報翻完，抬眼看向高長安。
高長安不等他開口，連忙解釋道：
“肖教授，這個是科技部牽頭的光刻機專項研究報告，目前國內幾家頂尖的光刻機研究所，還有滬城微電子研究所，都在參與這個專案，只是……一直沒有太大進展，遇到了一些技術瓶頸，他們知道您最近對光學感興趣，就想請您幫忙看看。”
原來是想讓他幫忙。
肖宿點點頭，但是沒有立刻答覆。
他重新翻開資料夾，翻到光學系統那一節，目光在波像差的描述段落上停了一會兒。
光刻物鏡的波像差本質上是一個光學傳遞函式的相位偏差問題，而相位偏差的來源是物鏡系統中幾十片透鏡的加工誤差和裝調誤差的疊加。
在傳統的光學工程中，波像差的校準靠的是對每一片透鏡的六個自由度進行逐片微調，然後反覆測量驗證，是一個典型的“調一調，看一看”的試湊過程。
但如果把整個物鏡系統看作一個辛流形上的哈密頓系統，鏡片組的裝配自由度對應位形空間，波前誤差對應哈密頓量，那波像差的最優校準就等價於在辛流形上尋找哈密頓量的極小值了。
而他已經在超材料設計的譜域對消框架裡搭好了類似的最優逼近思路，把那裡的控制論方法挪過來，也許能給出一個更系統的校準方案。
從方向上來說，可行。
但具體到他們遇到的那些數值指標到底能不能壓下去，得親眼看看實際的裝調資料和測試環境才能判斷。
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