第一個彙報的是羅華。
他把筆記本連上多媒體一體機，螢幕上出現了計算光刻模板的設計進展。
四版迭代的對比圖一字排開，每一版的單元幾何圖案都不一樣，從最開始的簡單矩形結構到現在的複雜鋸齒形，最佳化的方向清晰可見。
“目前計算光刻模板已經迭代到第四版了，第一版的全波模擬結果在目標頻段中端的相位匹配度只有百分之八十七，第二版改進之後提升到百分之九十三，第三版達到了百分之九十六點五，第四版是我們昨晚剛跑完的，目標頻段內的相位匹配度已經達到了百分之九十八點七。”
羅華說這話的時候語氣很平穩，底下的幾個人都在微微點頭。
百分之九十八點七的相位匹配度，放在正常的科研課題裡已經是可以結題的水平了。
接著第二個是趙雪晴。
她把磁控濺射和原子層沉積的工藝引數彙總表投在螢幕上，每一批薄膜的關鍵指標都標得清清楚楚的。
“鍍膜工藝這邊總共是跑了三批。
第一批的介面附著力不達標，金屬介質介面出現了納米級的剝離，第二批膜厚均勻性超了正負零點八個奈米，第三批在優化了濺射功率和基底溫度之後，均勻性控制在正負零點三奈米以內，折射率偏差在目標範圍內。”
她頓了一下，補充道：“目前第三批薄膜正在進行超表面天線陣列的整合測試，預計今晚就能出第一組耦合效率資料。”
接下來就是朱旭了。
“奈米壓印母版今天中午已經完成寫入了，正在進行壓印工藝除錯，第一版母版因為電壓波動報廢了，這是第二版，目前壓印模具的幾何精度在五奈米以內，完全滿足預定的指標。”
他停頓了一下，補充道：“但是電子束光刻的寫入時間太長了，一塊母版全寫完需要十三個小時以上，如果後續需要修改模板圖案，重新寫入的時間成本會非常高。
這個是目前最大的瓶頸了。”
接著是溫和林和邵歡的檢測模組彙報，還有柯東的電磁緊縮場彙報。
每個人的進展都算不上差，甚至可以說，按正常科研進度來看，他們的完成度已經非常驚人了。
半個月不到，從零開始搭建了一套百級潔淨間產線，跑了四版計算光刻模板，鍍了三批薄膜，寫了兩次母版，還搭好了一整套從光學到電磁的檢測鏈路，這效率，無論在那個實驗室來說都是頂尖的。
但是所有人都知道，這個完成度在肖宿的標準裡，不夠。
等所有模組都彙報完，會議室裡重新安靜下來。
所有人都不自覺地看向坐在桌首的肖宿，等著他開口。
但是肖宿沒有立刻開口。
他把羅華投在螢幕上的計算光刻模板又從頭到尾看了一遍，然後又翻了一下趙雪晴的薄膜引數彙總表。
“你們做全波模擬的網格劃分，用的是自適應四面體，還是結構化六面體？”
這個問題問得很突然，而且和剛才彙報的所有內容都不直接相關，所有人都被他問的有些猝不及防。
羅華很快反應過來，回答道：“用的是自適應四面體網格，CST的標準求解器設定，單元結構太複雜了，六面體網格不太好畫。”
肖宿聽完，抿了一下唇，緊接著又問了一個問題：
“那耦合矩陣求逆的求解器呢，用的LU分解還是共軛梯度迭代？”
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