魔都，張江高科技園區，上微電子總部。
在最高級別的超淨實驗室內，賀建國總工正帶著十幾名核心研發人員，圍繞著一臺剛剛組裝完畢、體積龐大得如同兩層樓高的小型工廠的機器，進行著緊張的最後整機聯調。
這，就是代表著華國目前半導體工業製造最高水平的——28n沒式DUV光刻機第一臺原型機。
相比於之前穩定量產的65n式光刻機，這臺機器的內部結構發生了翻天覆地的變化。
賀建國指著大螢幕上不斷跳動的即時監控資料，聲音因為連續熬夜而有些沙啞，但透著難以掩飾的激動。
“各單位注意彙報最新引數！”
“浸液系統迴圈穩定，水體折射率保持在1.44絕對值，沒有任何微氣泡產生！光學物鏡波前像差控制在設計容差範圍內！”負責長天光學浸沒式物鏡系統（NA 1.35）的技術員大聲彙報道。
“天卓精密第二代雙工件臺，矽片定位精度穩定在奈米級別，檯面同步運動無明顯抖動誤差！”
“天虹雷射193n分子光源，雷射脈衝能量輸出穩定，功率死死地釘在90瓦，完全滿足28n程多重曝光的極限能量需求！”
聽完這三大核心部件的聯調資料，賀建國長長地舒了一口氣。
這臺28n刻機之所以能如此迅速地成型，最大的底氣，就來自於天宇集團這幾年近乎瘋狂的底層投資。
這臺機器的三大核心部件——物鏡系統、雙工件臺、準分子光源，全部是長天光學、天卓精密和天虹雷射在吸收了65n發經驗後，砸出海量研發經費迭代出來的最新版本。
“立刻啟動最後一項關鍵驗證！”賀建國下達了最終指令，“進行28n限線寬的晶圓多重曝光均勻性測試！只要這項資料達標，咱們這臺國產28n沒式光刻機，就可以正式宣告進入工程樣機交付的最後倒計時！”
實驗室內的氣氛瞬間緊張到了極點，所有人都死死地盯著螢幕，等待著最後曝光結果的顯現。
……
鄭州，天宇集團總部。
陳立峰剛剛從魔都飛回來，連軸轉的行程讓他滿臉疲憊，但精神卻十分亢奮。
他手裡拿著一份絕密檔案，直接敲開了許晨辦公室的大門。
“許總，大好訊息！魔都那邊賀總工傳來確切情報，28n刻機原型的多重曝光測試通過了！”陳立峰激動地將報告遞到許晨面前，“現在距離工程樣機下線，只差最後的微調了！”
許晨接過報告，看著上面那些代表著勝利的資料，嘴角終於露出了滿意的笑容。
他知道，這臺光刻機能這麼快進入驗證階段，簡直是一個奇蹟。
原本在半導體行業的普遍認知中，從65n越到28n沒式，中間橫亙著無數技術壁壘。
阿斯麥當年走這條路，花了整整五年多的時間，燒掉了幾十億歐元。
而華國，滿打滿算，只用了不到兩年的時間！
陳立峰平復了一下激動的心情，開始進行彙報。
“許總，這次28n這麼快出成果。說實話，咱們天宇在底層砸的錢只是點火的引子，真正讓這臺機器飛起來的，是國家政策那股史無前例的超級東風！”
陳立峰調出一份政策時間軸：“您還記得2017年8月，咱們那臺65n式光刻機初光測試成功的訊息秘密上報給中央後的場景嗎？國家層面立刻意識到了這是突破封鎖的絕佳契機。”
“從2017年底到2018年初。國務院、工信部、科技部，密集得像下雨一樣，出臺了一系列針對半導體底層裝備的專項支援政策。”
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