緊接著。
一個被林決規劃好的消差工程節點圖，出現在眾人眼中。
林決聲音隨之傳來，
“前輩們也都清楚，EUV 反射鏡多層膜的原位相位非均勻性誤差，是因為8 米極紫外長光程的全域性波前基線失配產生的。”
“目前我們的做法和國外一樣。”
“......用11 塊鉬矽多層膜，透過反射鏡在斜入射入，讓膜層反射偏差經過 8 米的光程，11的 次反射線性累積，最後形成固定波前畸變。”
“我看了胡老給的手稿。”
“目前，我們光機所單塊反射鏡精度極致工藝水平，面形 0.2nR，13.5n反射率 65%......”
“對比蔡斯，AS的成熟量產水平來看，面形差了0，反射率差也差了足足5%！”
“而在多次反射累計後......”
“這個差距變得更大了。”
“我們全鏈路最終波前精度是1.2nR，而AS的，是0.15nR。”
“整整8倍的差距！！！”
“在這個資料下，實際工況僅能完成單根奈米線的原理驗證！”
“沒辦法......我們既缺少高階測量儀器，還沒有精準的全域性耦合補償模型......連實際誤差都拿不到。”
林決的聲音在會議室內迴響。
他口中的這些問題，在座諸君都是清楚，也是他們為此努力奮鬥解決的目標。
根據目前的進展來看......
要追上國外目前量產水平，在原本規劃中，可能還要個十二三年左右的時間。
注意.....
這裡林決說的還是量產水平，而並非最尖端產品！
“但現在......”
“根據我列出的工程節點推導。”
“林氏函子光學變式......咳咳......請允許我先用這個名字稱呼它。”
“我們是不是可以將它先做跨尺度同構對映，然後將零散值變成全域性真實的分佈呢！？”
“這樣做的話，我們就不用再去推演11次反射的相位積累.......”
“而是將十幾個零散的可見光測量指數函子，完成兩個關鍵對映！”
“大家且看......”
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