國內的基建速度每每能讓人震動。
哪怕他這個磁懸浮列車的方案提出者，對於磁懸浮列車示範區的建設速度也極為震驚。
鐵道部從去年起就憋著口氣，如今的建設速度極為誇張。
尤其是年初奉天市第一機床廠終於完成了五軸五聯動的數控機床，整個磁懸浮列車施工蜿蜒段的技術要求便徹底達標。
這條二十公里的磁懸浮建設段，大有下半年就要完工啟動測試的跡象。
沈永健這邊對於磁懸浮所需的電力系統，也擔心電力供應問題，進行了特高壓輸電線的研製。
不過研製工作才進行到一半，隨著微電子廠如今L-3晶片出口產量的進一步擴大。
包括卓邵文處L-5晶片最終研製生產對工藝的更高要求。
沈永健還是暫時將特高壓輸電線放放，先把精力投入在光刻機上。
距離上一次光刻機改進，已是四年前。
步進式光刻機，在目前已經是極為先進的產品。
米方當下新一代的光刻機是投影光刻機，和國內的步進式光刻機算是同一代裝置。
不過總的而言，還是國內步進式光刻機更為成熟，也是未來演進的方向。
沈永健翻看著微電子廠送來的使用反饋。
有一線光刻機操作員的反饋，也有技術維修相關工程師的反饋，同時還有份是自己學生薛福根的意見。
意見總共有幾條，首先便是視野有限。
目前的光刻機對於L-3與L-4的幾個延伸型號晶片，尤其是設計面積大的“大晶片”容易照不全。
需要將這塊“大晶片”拆分成好幾塊拼接曝光。
而且工藝上曝光的邊緣容易糊，不均勻。
多層套刻時，精度比較差，這也是目前新一代L-4晶片良品率上不去的主要原因。
沈永健眉頭微蹙，從邊上的檔案袋內取出上一代的步進重複光刻機圖紙。
腦中仔細回顧原先的設計思路，包括這些年對於光刻機的一些想法積累，很快便動筆規劃起新圖紙。
關於光刻機的幾代演進方向，他心中一清二楚。
真要只是從設計考慮，他能發揮的空間很大，哪怕是後世接近現代化光刻機也並非不可能。
但考慮到現實的生產條件，最後還是搖了搖頭，將步進重複光刻機先試著升級為步進掃描光刻機。
步進重複與步進掃描，其實都算是步進式光刻機，但兩者效能差距不小。
傳統的步進重複是“靜止曝光”，而步進掃描則是“動態曝光”。
在曝光瞬間，掩模臺和矽片臺不再保持靜止，而是按照精確的縮小比例進行同步反向移動。
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